本文評(píng)述了近年來(lái)PDP工藝中的MgO(氧化鎂)保護(hù)膜制作的技術(shù)進(jìn)展,討論了電子束蒸鍍法與其它保護(hù)膜制作工藝的區(qū)別以及影響電子束蒸鍍的各種因素及真空技術(shù)的應(yīng)用。
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等離子顯示器(PDP) 介質(zhì)保護(hù)層 鋁摻雜氧化鎂 PDP驅(qū)動(dòng)電源 3、測(cè)試了鋁摻雜氧化鎂介質(zhì)層PDP的放電電壓性能。水熱法制備的鋁摻雜氧化鎂粉末,當(dāng)鋁摻雜量不超過(guò)3%
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由于保護(hù)膜直接與放電單元中的放電氣體相接觸,其性能直接影響到 PDP 的 工作特性。而氧化鎂薄膜作為等離子顯示屏的介質(zhì)保護(hù)層,不僅可以耐濺射離子的 轟擊,延長(zhǎng) PDP
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